TracePro版本介紹

  (1)LC版本:

  1、可用于基础照明与导光的分析。

  2、无优化功能及macro等功能。

  (2)Standard版本:

  1、可自由定义模型对象与光源对象的外型，

  2、可以考虑反射 、透射、渐变折射、双向散射、体散射、 光学薄膜及偏振材料等光学特性。

  3、可完整定义光源特性 ，包含格点光源、表面光源、 黑体辐射及档案光源。

  4、可使用重点采样(importance sampling)技术对随机光线标定出有效的光线。

  5、使用Irradiance/Illuminance Map、Candela Plot、Polarization Map、Incident Ray Tables方式进行后续处理的可视化输出。

  6、具有客制化能力，可利用scheme或VB语言来执行宏指令(Macro)。

  (3)Expert版本:

  1、拥有所有 Standard 的功能。

  2、RepTile与texture Optimize 功能，应用于具有庞大数量的重复性微结构建模，非常适合应用于 LCD 背光板的模拟分析。

  3、可求算荧光粉的激发模拟

  4、可考虑双折射参数与非对称的散射材料参数。 TracePro可直接在程序中建立虚拟模型，也同时支持模型利用CAD汇入，档案间转换兼容性极高。上海官方Tracepro软件

3D优化

TracePro 提供3D对称及非对称优化器，可快速指定起始设计以及交互式控制点和分段点规格。优化器具有内置的交互式光线跟 踪工具，可快速诊断设计的可行性，并在控制点或分段点上拉动即可自动更新任何光线跟 踪。TracePro 的优化过程迅速确定了设计的可行性，同时还允许连续监视结果并将其用于模型的后续优化。3D优化器支持复杂的非对称设计，非常适合设计形状异常的复杂光导条和LED透镜。

结构优化

TracePro 提供了Texture Optimizer，可让您优化背光上散射点的分布。首先定义目标辐照度分布，然后定义点的起点分布。 优化器将调整点的密度以实现您的目标分布。

可视化的选项包括:真实渲染，实体渲染、轮廓线、线框和隐藏线等，这些选项能帮助设计更直观、准确地区设计所想要的产品。它的多文档和多视图结构允许用户可以在同一时间打开同一个模型的几个视图模式。复制和粘贴一个物体到另一个模型只需要简单的几个按键或者菜单选择项。

TracePro的RepTile特色能够简单的，自动的在任意表面设计大量的微结构，这些微结构的位置既可以随机设置，也可进行周期性排列，例如亮度增强膜，光导中的散射点，并且这些微结构可以均匀分布，可以参数化，或者可以利用已有的数据文件来设置。另外，用户可以设定每个微结构的属性，例如边数，高度，宽度，厚度，曲率半径，二次曲面系数，非球面，旋转角度。

优化方法

TracePro的2D和3D优化器用的是优化算法，也称作Nelder-Mead算法。

这种下山单纯形法是一种局部优化，收敛于**靠近起始点的局部**小解。在优化中，你可以控制这个优化过程，监测临时解决方案。你可以暂停优化器改变原始参数，然后重新优化。这种算法让你可以控制整个过程，并且能在很少的时间内找到更好的方案。

CAD整合

TracePro通过它的对于SolidWorks的桥梁接口来提供对SolidWorks的无缝整合，一个SolidWorks的加载项允许光学属性直接被用到SolidWorks的模型中，保持从SolidWorks中导出到TracePro中的模型机械和光学属性不变。其结果是，在不**了性能和功能情况下提高了设计工作效率。

性能和精确性

光线追迹功能包括：

• 光线分裂

• 精确的光线追迹–不会错过任何交叉点或“漏掉”光线

•“分析模式”光线追迹，用于在光线追迹完成后以交互方式查看任何表面或对象上的任何分析结果

•“Simulation Mode”光线跟 踪功能，用于跟 踪非常多的光线，而几乎不消耗内存或不消耗内存

• 多个出射面（模拟模式）

• 使用统一或八叉树体素对对象空间进行体素化以进行快速光线追迹

• 光圈衍射

• 重点取样

• 通过这种方法改进采样的设计的反向光线跟 踪 上海复光复瞻Tracepro软件下载。

光学仿真就用Tracepro正版代理。上海官方Tracepro软件

光学追迹功能包括：

l  分光

l  准确的光线追踪-----不错过交叉或虚弱的光线

l  分析模式光线追迹对于交互式视图在任何表面或物体上的分析结果都是完整的

l  仿真模式光线追迹在追踪大量光线时的内存消耗是非常少或者是没有的

l  多出射面（仿真模式）

l  均匀或八叉树的立体像素地光线追迹使物体空间体素化

l  孔径衍射

l  重点分层采样

l  通过反向光线追迹来完善抽样方法的设计

TracePro仿真布局在发光强度，辐照度/光照度和波动在一个模型或在选定面使用Monte Carlo的方法追踪光线。光源由发射光线建模。此外，在TracePro表面光源属性中可以绘制面源属性直接从制造商的数据表导入。 上海官方Tracepro软件

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